金属电解盐水腐蚀机机械设备服务「蓝光同茂」

蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。

光刻机(mask aligner) 又名:掩模对准-机，-系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 mask alignment system.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准-、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时到硅片上的过程。

光栅刻画:光学中光栅通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。

前面所描述的印法，图文是以不同色彩的油墨来表现的，但在许多特殊的场合，诸如通讯设备的面板、尺板、度盘，或在-环境下所适应的有机玻璃的图文表示等，网印油墨的墨层有可能会产生一些弊端，采用色彩蚀刻机蚀刻的方法，会有所-。

所谓彩色蚀刻，是指将醇溶性颜料，按不同的比列溶解于有机玻璃有侵蚀作用的中，使有机玻璃上的图文表面溶解，待挥发后，颜色已与有机玻璃的图文表面层溶于一体，具有结合牢度强、耐磨性、耐候性好的特点。

工艺流程 有机玻璃清洁处理----喷涂抗蚀刻感光胶-------显影着色---彩色蚀刻---去胶膜----成型----去防所纸----抛光---成品

所谓目标性，就是通过某一工艺流程的全过程有一个明确的输出，或者说要达到某一特定的目的。对于金属蚀刻而言，这个目的就是满足其设计图纸对产品的要求。更具体地说，这些

要求包括产品的蚀刻尺寸要求、经蚀刻后的表面粗糙度要求等。

比如，对于装饰用途的图文蚀刻产品，经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:要求经蚀刻后的图文清晰度要高;要求经蚀刻后金属表面粗糙度要符合设计要求;要求图文的蚀刻-要满足设计要求;工件在蚀刻过程所发生的形变要在设计规定的范围之内;等等。

再如，对于结构用途的产品，经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:经蚀刻后的工件其蚀刻-是否在设计规定的公差范围之内;经蚀刻后的工件其横向蚀刻尺寸变化后的实际尺寸是否在设计规定的公差范围之内，经蚀刻后的工件表面粗糙度是否满足设计要求等等。